硅晶电池片反射率仪


	线阵CCD光纤光谱仪背照面CCD光纤光谱仪线阵PDA光纤光谱仪近红外光谱仪红外光谱仪荧光光谱仪线阵PbSe光谱仪光栅光谱仪双色散单色仪 HORIBA JY光谱仪和探测器地物光谱仪，地物波谱仪 Apogee (AIS) CCD探测器

光谱应用系统

激光器


	Menlo飞秒激光器 CrystaLaser激光器 CryLas激光器 CVI激光器小型红外连续可调激光器 Schafter Kirchhoff激光器 Coherent半导体激光器半导体激光器/窄线宽拉曼激光器 Nd:YAG脉冲激光器可调激光器OPO,钛宝石飞秒Yb:KYW激光器 PDLD VBG拉曼激光器多波长脉冲激光器 ALS Pilas皮秒激光器 Toptica超快光纤激光器 Denselight SLED和DFB

激光测量


	激光波长计积分球激光分析 Coherent激光功率计能量计 Dataray激光光束分析系统自相关仪 FJW红外观察仪 Batop可饱和吸收镜激光防护镜激光电流源控制器TEC 自适应光学元件可变形反射镜波前传感器超快激光镜片 EOT高速光电探测器 EOT光隔离器 WOP偏振转换片 Alphalas超快探测器可调波片 OKO薄膜变形镜压电变形镜波前传感器横河光谱分析仪光时域反射仪光波长计

宽带光源


	氘灯卤钨灯氘卤钨灯氙灯大功率光源 LED光源波长校准汞氩灯能量校准灯太阳能模拟器积分球均匀光源太阳能模拟器均匀光源氮化硅红外光源标准黑体

LED影像测量


	LED和OLED测量系统 LED光强测试系统灯具测试系统平面显示测量图像光度计 Brontes色度计高光谱成像系统光谱图像辐射计 Apogee (AIS) CCD探测器

光学附件

Thorlabs

Newport

Edmund

CVI

标准反射板


	太赫兹晶体太赫兹一体化系统实验室级太赫兹系统太赫兹图像系统太赫兹功率计自校正高灵敏太赫兹功率计太赫兹光电导天线太赫兹光学元件/偏振片 Terasense太赫兹相机线阵列太赫兹相机和发生器高功率太赫兹发生器 Nethis太赫兹显示卡 Tydex太赫兹镜片/偏振片/滤光片 INO太赫兹相机/镜头

滤光片

石墨烯纳米材料

R9000硅晶电池片反射率仪
太阳能领域全自动两维扫描反射率仪

通过反射率测量进行绒化控制
通过颜色和厚度测量进行减反射膜控制

硅晶电池片反射率仪

产品特点：

膜层反射率、膜厚和颜色的离线测量
用于研发，生产过程对镀膜工艺的质量控制
设计人性化
精确，重复性好
性价比高
具有全部知识产权，定制设计平台好
检测速度快，检测工序简单

开机无需预热；测试同一块样品，节约工人时间50%以上；

连续测试样品，节约工人时间80%以上。

R9000系列设计精度更高，样品更加贴近积分球，测量的反射率更加准确。

硅晶电池片反射率仪

小提示：按照国际上通行的光谱测量标准（CIE），漫反射样品的反射率测量需要使用积分球。因此，要获得电池片绒面反射率的准确数据，需要使用积分球�；智蛟谑褂弥幸笱肪×刻�。样品离积分球开口越近，积分球收集到的光越多，反射率测量越准确。

高性价比和售后服务

同样价格更多实用配置和功能。
每台仪器都选用高质量零件，零件全检，系统出场前必须全部通过测试。
厂家随同仪器提供完整的技术资料和软件。
免费培训用户技术人员2人，并进行操作演示、技术咨询及数据处理等培训。
维修响应时间：卖方接到买方的维修通知后24-48小时迅速响应。
免费质保期内卖方负责所有因设备质量问题而产生的费用。
质保期后的服务后，提供终身维护服务，只按厂价收取所换的成本费，不收维护费。
国内设有物流中心，免去了购买进口产品不可避免的维修周期长的弊病和高关税。
自主研发，具有更大的自主改进和开行性，对不同的客户要求可以积极有效的响应。

R9000-2DMA自动图谱（Mapping）功能

-单块片子反射率并不均匀，传统反射率仪器只能测试某一点，多点测试靠人工移动，数据没有可比性。

-R9000 提供全自动多点扫描功能，让您更准确了解自己的产品情况

硅晶电池片反射率仪

R9000-2DMA应用

电池片（Cell/module) 减反工艺，优化及监控包括：
酸制绒工艺；碱制绒工艺； SiNx 减反膜工艺；复合减反膜工艺
EVA封装工艺； TiO2减反膜工艺； SiO2钝化工艺；光伏（绒面）玻璃封装工艺

裸片和镀膜片测量裸片和镀膜片测量:
两维扫描（Mapping）
快速，操作方便
积分式、非接触

测量参数：
单点反射率
两维扫描反射率
电池片不均匀度
膜厚
色度（颜色）

产品组件:
两维全自动反射率仪R9000-2DMA
标准白参考瓦
标准镜面反射体
控制软件Morpho-R9MA
膜厚及色度分析软件
灯泡

用于检测所有相关硅片类型:
单晶硅片（抛光、粗糙、绒化）
多晶硅片（抛光、粗糙、绒化）
硅片尺寸：125x125 / 156x156 mm

反射率范围	0~100%
波长范围	360~1050nm / 250~1100nm
膜厚范围 (SiNx)	25~120nm
膜厚范围 (SiO2)	35~160nm
反射率精度	0.10%
反射率重复性	+/-0.2 %
膜厚精度	5 nm
颜色测量	Lab / XYZ / xyz
测量光斑直径	6 mm
测量速度	2秒/点
测量模式	积分球

现场使用情况

硅晶电池片反射率仪



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